S
satyasiva
Guest
Por que nós usamos como poli portão?
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S
Salma Ali Bakr
Guest
poli é usado em vez de portas de metal porque a função trabalho de poli corresponde à função de trabalho de si substrato mais de metais, o que significa que o Vt é menor (o que é importante para o dimensionamento)
também, poli tem uma maior resistência à temperatura do que a maioria dos metais ...
também, poli tem uma maior resistência à temperatura do que a maioria dos metais ...
K
Kral
Guest
satyasiva,
É interessante notar que há muitos anos poli tem sido utilizado como material de porta, tornando assim o termo MOSFET (metal-óxido de silício transistor de efeito de campo de um equívoco.
.
Agora, a Intel, em sua mais recente família de processadores, tem voltado para o uso de portas metálicas devido à incompatibilidade dos portões poli com o óxido de háfnio k elevado dielétrico.Nós temos um círculo completo!
Atenciosamente,
Kral
É interessante notar que há muitos anos poli tem sido utilizado como material de porta, tornando assim o termo MOSFET (metal-óxido de silício transistor de efeito de campo de um equívoco.
.
Agora, a Intel, em sua mais recente família de processadores, tem voltado para o uso de portas metálicas devido à incompatibilidade dos portões poli com o óxido de háfnio k elevado dielétrico.Nós temos um círculo completo!
Atenciosamente,
Kral
D
deh_fuhrer
Guest
satyasiva escreveu:
Por que nós usamos como poli portão?
Por que nós usamos como poli portão?
J
jeepx5
Guest
O metal (Al) foi utilizado como porta no processo mos cedo.A menor resistência de porta é o melhor, especialmente para aplicações de RF.
O
obi1
Guest
Metal foi utilizado quando as dimensões do transistor foi realmente grande (mais de 1um comprimento), foi tão alignament `nt tal problema, mas a tecnologia submicron forr ... era imposible prever o metal para que ele possa estar certo entre fonte e dreno.
K
Kral
Guest
satyasiva,
Como deh_fuhrer mencionado, poli pode suportar temeratures superior ao metal.Este era um outro obstáculo que a Intel teve de superar com a sua nova "oi K dielétrico" o processo.Anteriormente, o portão foi depositado em primeiro lugar, seguido pelo canal.No entanto, desde o oi-k dielectric requer uma alta temperatura de recozimento de processo, que iria destruir o portão de metal, a Intel teve que ir para um canal de "primeira" do processo.Este conjunto Intel "oi K história" é descrito na última edição da revista IEEE Spectrum, no caso estiver interessado.
Atenciosamente,
Kral
Como deh_fuhrer mencionado, poli pode suportar temeratures superior ao metal.Este era um outro obstáculo que a Intel teve de superar com a sua nova "oi K dielétrico" o processo.Anteriormente, o portão foi depositado em primeiro lugar, seguido pelo canal.No entanto, desde o oi-k dielectric requer uma alta temperatura de recozimento de processo, que iria destruir o portão de metal, a Intel teve que ir para um canal de "primeira" do processo.Este conjunto Intel "oi K história" é descrito na última edição da revista IEEE Spectrum, no caso estiver interessado.
Atenciosamente,
Kral
T
tia_design
Guest
No statge cedo, é a porta de metal AL, mas depois vem a poly.Um dos motivos é selfalignment.Você pode verificar em algum livro de semicondutores.